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[发布] 有关真空镀膜偏压清洗的事情想问一下懂的人

楼主
发表于 2017/3/30 13:46:21 | 只看该作者

先介绍一下我的仪器是普通的电阻式的蒸镀仪器,但是当初老师买的时候预留了一下磁控溅射的部件准备将来加装的,气体流量计和偏压电源,做普通的蒸镀没有什么问题。我现在想用偏压对基片进行清洗,但是以前的人都没有用过,只有当时厂家留下的一点点信息。看到上面写在2-3pa通氩气加偏压进行辉光清洗的,我想问一下2-3pa的情况下进行清洗要不要开分子泵,我机器机械泵抽零点几帕还是可以的,能不能就在抽粗真空的时候进行清洗。还有如果要开分子泵清洗的话,第一次用的时候有没有什么要注意的,会不会出现通的氩气气压太大进入分子泵出问题的。我没有用过磁控溅射的设备所以不是很清楚通气的事情,有没有同学指导一下。    


1 楼
发表于 2017/3/30 | 只看该作者

1.分子泵要开,2-3pa,分子泵可以正常工作,并且在分子泵和镀膜室之间有个调压阀,分子泵泵口的实际压力是优于2-3pa的;另溅射或清洗前需要分子泵把本底真空抽到10-3pa以上。2.充气时,先打开调压阀,再打开流量计慢慢调节流量,注意观察真空度。一般很好稳定在想要的真空度。

东东那个东 : 这是离子撞击,不管您怎么调,气体离子都会撞击靶头的电极,将电极材质附着在清洗的基片上,我认为没有改过的靶头,再清洗都是徒劳

2017/3/30 13:51:31 回复

2 楼
发表于 2017/3/30 | 只看该作者

小弟以前做过离子源和各种镀膜,来说说吧∶
1. 清洁基板不一定只能用氩气,氧气有时会更好。纯氮甚至 CDA(clean dry air)有时也是不错选择,取决於基板材质、膜质、膜厚等。
2. 偏压电源供应器要小心烧掉,也要确实接地。起始电压和相关数据得自己查表和 trial and error。注意偏压的电流值,可以表示辉光放电点火与否和等离子体的状态。甚至可以等效表示气压大小。
3. 气流和压力控制部分帮不了你;得自己先看看书,和设备上先用便宜气体空操看看。确定流量和压力都可以。
先这样吧~    



东东那个东 : 重点是提问者的仪器达不到您说的情况

2017/3/30 13:51:47 回复

3 楼
发表于 2017/3/30 | 只看该作者

对了,电压要控制别太高。别把清洗搞成溅镀┅

4 楼
发表于 2017/3/30 | 只看该作者

您说的清洗使用溅射仪,,,溅射仪是可以有清洗的功能,
清洗要注意晶片的倾斜角,真空度,温度,以及晶片是否怕氧化
但是您的靶头需要改变一下,不然等于溅射靶材覆盖薄膜,您的仪器应该是老仪器了吧,现在基本上不会这么做了,改动需要技术人员现场调试后,您才能用,说明书上说能用,但是他一定没有告诉您怎么用,因为厂家认为这个功能您就不会用,写出来也就是一个噱头,您可以尝试用PECVD的等离发生器,等离子清洗机,或者从市场上买个螺线管再买个射频电源接一起。    



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