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[发布] 有关真空镀膜偏压清洗的事情想问一下懂的人 |
先介绍一下我的仪器是普通的电阻式的蒸镀仪器,但是当初老师买的时候预留了一下磁控溅射的部件准备将来加装的,气体流量计和偏压电源,做普通的蒸镀没有什么问题。我现在想用偏压对基片进行清洗,但是以前的人都没有用过,只有当时厂家留下的一点点信息。看到上面写在2-3pa通氩气加偏压进行辉光清洗的,我想问一下2-3pa的情况下进行清洗要不要开分子泵,我机器机械泵抽零点几帕还是可以的,能不能就在抽粗真空的时候进行清洗。还有如果要开分子泵清洗的话,第一次用的时候有没有什么要注意的,会不会出现通的氩气气压太大进入分子泵出问题的。我没有用过磁控溅射的设备所以不是很清楚通气的事情,有没有同学指导一下。 |
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东东那个东 : 重点是提问者的仪器达不到您说的情况 2017/3/30 13:51:47 回复 |
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东东那个东 : 这是离子撞击,不管您怎么调,气体离子都会撞击靶头的电极,将电极材质附着在清洗的基片上,我认为没有改过的靶头,再清洗都是徒劳
2017/3/30 13:51:31 回复